Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung eines Objekts

Zur Reinigung eines Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung wird eine Vorrichtung (200) vorgeschlagen, die mindestens eine Zufuhreinheit (220) für sauerstoffhaltiges Gas sowie eine organische Substanz aufweist, die mindestens eine Kohlenstoff...

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1. Verfasser: Kaller, Julian
Format: Patent
Sprache:ger
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creator Kaller, Julian
description Zur Reinigung eines Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung wird eine Vorrichtung (200) vorgeschlagen, die mindestens eine Zufuhreinheit (220) für sauerstoffhaltiges Gas sowie eine organische Substanz aufweist, die mindestens eine Kohlenstoffdoppelbindung und/oder mindestens eine Kohlenstoffdreifachbindung aufweist. Zur Reinigung des Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung, wird es einem Gemisch aus Ozon und einer organischen Substanz, die mindestens eine Kohlenstoffdoppelbindung und/oder mindestens eine Kohlenstoffdreifachbindung aufweist, ausgesetzt.
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Zur Reinigung des Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung, wird es einem Gemisch aus Ozon und einer organischen Substanz, die mindestens eine Kohlenstoffdoppelbindung und/oder mindestens eine Kohlenstoffdreifachbindung aufweist, ausgesetzt.</description><language>ger</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CINEMATOGRAPHY ; CLEANING ; CLEANING IN GENERAL ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2017</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20170831&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102016216266A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76318</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20170831&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102016216266A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Kaller, Julian</creatorcontrib><title>Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung eines Objekts</title><description>Zur Reinigung eines Objekts (204, 206, 208, 210, 212, 214) von Kontamination mit einer kohlenstoffhaltigen Verbindung wird eine Vorrichtung (200) vorgeschlagen, die mindestens eine Zufuhreinheit (220) für sauerstoffhaltiges Gas sowie eine organische Substanz aufweist, die mindestens eine Kohlenstoffdoppelbindung und/oder mindestens eine Kohlenstoffdreifachbindung aufweist. 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