Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit optischer Korrekturenanordnung und Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (100,400) für die Halbleiterlithographie mit einer optischen Korrekturanordnung insbesondere zur Wellenfrontkorrektur, wobei die Korrekturanordnung ein optisch wirksames Element (1) mit einer reflektierenden oder diffraktiven Oberfläche aufwei...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Bleidistel, Sascha
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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