Mikromechanischer Sensor und Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Sensors
Mikromechanischer Sensor (100), aufweisend: - wenigstens ein bewegliches asymmetrisch ausgebildetes Massenelement (10); wobei - ein gegenüber einer Zusatzmasse (Z) des Massenelements (10) angeordneter Leiterbahnbereich (14) in Teilbereiche partitioniert ist; wobei - ein erster Teilbereich mit einem...
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| creator | Classen, Johannes Braeuer, Joerg |
| description | Mikromechanischer Sensor (100), aufweisend: - wenigstens ein bewegliches asymmetrisch ausgebildetes Massenelement (10); wobei - ein gegenüber einer Zusatzmasse (Z) des Massenelements (10) angeordneter Leiterbahnbereich (14) in Teilbereiche partitioniert ist; wobei - ein erster Teilbereich mit einem definierten dritten Potential (CM) beaufschlagt wird; wobei - ein zweiter Teilbereich mit einem definierten vierten Potential (CS) beaufschlagt wird; und wobei - die Partitionierung des Leiterbahnbereichs (14) derart ausgebildet ist, dass bei einer Änderung der Potentiale (CM, CS) eine Wechselwirkung zwischen dem Massenelement (10) und dem Leiterbahnbereich (14) minimiert ist. |
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wobei - ein gegenüber einer Zusatzmasse (Z) des Massenelements (10) angeordneter Leiterbahnbereich (14) in Teilbereiche partitioniert ist; wobei - ein erster Teilbereich mit einem definierten dritten Potential (CM) beaufschlagt wird; wobei - ein zweiter Teilbereich mit einem definierten vierten Potential (CS) beaufschlagt wird; und wobei - die Partitionierung des Leiterbahnbereichs (14) derart ausgebildet ist, dass bei einer Änderung der Potentiale (CM, CS) eine Wechselwirkung zwischen dem Massenelement (10) und dem Leiterbahnbereich (14) minimiert ist.</description><language>ger</language><subject>GYROSCOPIC INSTRUMENTS ; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT ; MEASURING ; MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS ; MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION,OR SHOCK ; MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES ; MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY ; NAVIGATION ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY ; PHYSICS ; PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS ; 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wobei - ein gegenüber einer Zusatzmasse (Z) des Massenelements (10) angeordneter Leiterbahnbereich (14) in Teilbereiche partitioniert ist; wobei - ein erster Teilbereich mit einem definierten dritten Potential (CM) beaufschlagt wird; wobei - ein zweiter Teilbereich mit einem definierten vierten Potential (CS) beaufschlagt wird; und wobei - die Partitionierung des Leiterbahnbereichs (14) derart ausgebildet ist, dass bei einer Änderung der Potentiale (CM, CS) eine Wechselwirkung zwischen dem Massenelement (10) und dem Leiterbahnbereich (14) minimiert ist.</description><subject>GYROSCOPIC INSTRUMENTS</subject><subject>INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT</subject><subject>MEASURING</subject><subject>MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS</subject><subject>MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION,OR SHOCK</subject><subject>MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES</subject><subject>MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY</subject><subject>NAVIGATION</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS</subject><subject>SURVEYING</subject><subject>TESTING</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2017</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZAj1zcwuys9NTc5IzMssTs5ILVIITs0rzi9SKM1LUQhLLUpLzChKzVOoKs1V8EgtKi5JzckBclMz81KLFXLR9OZB9RbzMLCmJeYUp_JCaW4GVTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JJ4F1dDAyMDQzMjA3MzUwNHQ2Ni1QEADAY7ew</recordid><startdate>20171109</startdate><enddate>20171109</enddate><creator>Classen, Johannes</creator><creator>Braeuer, Joerg</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20171109</creationdate><title>Mikromechanischer Sensor und Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Sensors</title><author>Classen, Johannes ; 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