Mikromechanischer Sensor und Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Sensors

Mikromechanischer Sensor (100), aufweisend: - wenigstens ein bewegliches asymmetrisch ausgebildetes Massenelement (10); wobei - ein gegenüber einer Zusatzmasse (Z) des Massenelements (10) angeordneter Leiterbahnbereich (14) in Teilbereiche partitioniert ist; wobei - ein erster Teilbereich mit einem...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Classen, Johannes, Braeuer, Joerg
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	GYROSCOPIC INSTRUMENTS INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT MEASURING MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION,OR SHOCK MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY NAVIGATION PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY PHYSICS PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS SURVEYING TESTING TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Mikromechanischer Sensor (100), aufweisend: - wenigstens ein bewegliches asymmetrisch ausgebildetes Massenelement (10); wobei - ein gegenüber einer Zusatzmasse (Z) des Massenelements (10) angeordneter Leiterbahnbereich (14) in Teilbereiche partitioniert ist; wobei - ein erster Teilbereich mit einem definierten dritten Potential (CM) beaufschlagt wird; wobei - ein zweiter Teilbereich mit einem definierten vierten Potential (CS) beaufschlagt wird; und wobei - die Partitionierung des Leiterbahnbereichs (14) derart ausgebildet ist, dass bei einer Änderung der Potentiale (CM, CS) eine Wechselwirkung zwischen dem Massenelement (10) und dem Leiterbahnbereich (14) minimiert ist.