Projektionsbelichtungsanlage mit Sensoreinheit zur Partikeldetektion

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (100) für die Halbleiterlithographie mit einer Vorrichtung zur Detektion von in der Anlage befindlichen Partikeln. Dabei enthält die Vorrichtung eine Sensoreinheit (2) zur Aufnahme von Partikeln und eine Auswerteeinheit (3) zur Detektion der v...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Schmidt, Stefan-Wolfgang, Storm, Arnoldus Jan, Ehm, Dirk Heinrich, Williams-Peters, Alisia, Logtenberg, Hella
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MATERIALS THEREFOR MEASURING ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING
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