VERFAHREN ZUM BEARBEITEN EINES WAFERS UND VERFAHREN ZUM BEARBEITEN EINES TRÄGERS
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Bearbeiten eines Wafers das Abtasten des Wafers mit einem fokussierten Laserstrahl, um eine Defektstruktur innerhalb des Wafers zu bilden, enthalten, wobei die Defektstruktur ein erstes Gebiet des Wafers, das an einer ersten Seite der Defe...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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