Halbleiterbauelement, Verfahren zum Prozessieren eines Substrats und Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Halbleiterbauelement Folgendes aufweisen: ein Halbleitersubstrat (202) aufweisend Silizium, eine Metallisierungsschicht (214) aufweisend Aluminium und Silizium, wobei die Metallisierungsschicht (214) über mindestens einem ersten Bereich (202a) des Halbl...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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