Halbleiterbauelement, Verfahren zum Prozessieren eines Substrats und Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Halbleiterbauelement Folgendes aufweisen: ein Halbleitersubstrat (202) aufweisend Silizium, eine Metallisierungsschicht (214) aufweisend Aluminium und Silizium, wobei die Metallisierungsschicht (214) über mindestens einem ersten Bereich (202a) des Halbl...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Schrettlinger, Karin, Riegler, Andreas, Krivec, Stefan, Plappert, Mathias
Format: Patent
Sprache:ger
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