Vorrichtung und Verfahren zur Wellenfrontanalyse

Vorrichtung zur Wellenfrontanalyse, welche zur Analyse der Wellenfront wenigstens einer ein optisches System durchlaufenden Lichtwelle ausgelegt ist, mit* wenigstens einer Beleuchtungsmaske (105, 205, 305, 405, 406, 407);* wenigstens einem ersten Gitter (120, 220, 320, 420), welches wenigstens eine erste Gitterstruktur aufweist und aus einer zu analysierenden, von der Beleuchtungsmaske (105, 205, 305, 405, 406, 407) ausgehenden und das optische System durchlaufenden Wellenfront ein Interferogramm in einer vorgegebenen Ebene erzeugt;* wenigstens einem in dieser vorgegebenen Ebene angeordneten zweiten Gitter (130, 230, 250, 330, 430), welches wenigstens eine zweite Gitterstruktur aufweist und durch Überlagerung der zweiten Gitterstruktur mit dem von dem ersten Gitter (120, 220, 320, 420) erzeugten Interferogramm ein Überlagerungsmuster erzeugt; und* wenigstens einem Detektor (140, 240, 340, 440) zur Erfassung dieses Überlagerungsmusters. A device and a method for wavefront analysis. The device is designed for analyzing the wavefront of at least one light wave passing through an optical system, and has at least one illumination mask (105, 205, 305, 405, 406, 407), at least one first grating (120, 220, 320, 420), at least one second grating (130, 230, 330, 430) arranged in the predefined plane and at least one detector (140, 240, 340, 440) for detecting said superimposition pattern. The at least one first grating has at least one first grating structure and generates an interferogram in a predefined plane from a wavefront to be analyzed which proceeds from the illumination mask and passes through the optical system. The at least one second grating has at least one second grating structure and generates a superimposition pattern by the superimposition of the second grating structure with the interferogram generated by the first grating.