Verfahren zum Bearbeiten eines optischen Elements

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bearbeiten eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie, wobei das optische Element ein Substrat (105, 205) aufweist, wobei das Substrat (105, 205) wenigstens einen kompaktierten Bereich (120, 220) mit erhöhter Dic...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	RENNON, SIEGFRIED, WEISER, MARTIN
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES HOLOGRAPHY IRRADIATION DEVICES MATERIALS THEREFOR NUCLEAR ENGINEERING NUCLEAR PHYSICS OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bearbeiten eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie, wobei das optische Element ein Substrat (105, 205) aufweist, wobei das Substrat (105, 205) wenigstens einen kompaktierten Bereich (120, 220) mit erhöhter Dichte aufweist, und wobei das Verfahren den Schritt aufweist: Einkoppeln von Wärmeenergie in das Substrat (105, 205) derart, dass durch eine über diese Wärmeenergie in das Substrat (105, 205) eingebrachte mechanische Spannung eine durch den kompaktierten Bereich (120, 220) in dem Substrat induzierte mechanische Spannung wenigstens teilweise kompensiert wird.