Verfahren zur Charakterisierung einer diffraktiven optischen Struktur
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Charakterisierung einer diffraktiven optischen Struktur, wobei eine Mehrzahl von für die diffraktive optische Struktur charakteristischen Profilparametern auf Basis von Messungen der Intensität elektromagnetischer Strahlung nach deren Beugung an der diffrakti...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Charakterisierung einer diffraktiven optischen Struktur, wobei eine Mehrzahl von für die diffraktive optische Struktur charakteristischen Profilparametern auf Basis von Messungen der Intensität elektromagnetischer Strahlung nach deren Beugung an der diffraktiven optischen Struktur ermittelt werden, wobei diese Intensitätsmessungen für unterschiedliche Kombinationen aus Wellenlänge und Polarisation durchgeführt werden, und wobei eine Ermittlung der Profilparameter basierend auf bei diesen Intensitätsmessungen gemessenen Intensitätswerten sowie für jeweils unterschiedliche Kombinationen aus Wellenlänge, Polarisation und Profilparameterwerten berechneten Intensitätswerten unter Anwendung einer mathematischen Optimierungsmethode erfolgt. Erfindungsgemäß wird bei der Anwendung der mathematischen Optimierungsmethode zwischen einem ersten Parametersatz von Profilparametern und einem zweiten Parametersatz von Profilparametern insofern unterschieden, als für die Profilparameter des ersten Parametersatzes für unterschiedliche Orte auf der diffraktiven optischen Struktur jeweils separate Werte für die Profilparameter des ersten Parametersatzes ermittelt werden, wohingegen für jeden Profilparameter des zweiten Parametersatzes jeweils nur ein einziger Wert für die gesamte diffraktive optische Struktur ermittelt wird. |
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