ERFASSUNG VON VERUNREINIGUNGEN BEI DER HERSTELLUNG VON KOMPONENTEN FÜR OPTISCHE ANLAGEN FÜR DEN EINSATZ IN DER MIKRO-LITHOGRAPHIE

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Komponenten für optische Anlagen für den Einsatz in der Mikrolithographie, insbesondere von Komponenten für EUVL-Projektionsbelichtungsanlagen oder Anlagen zur Charakterisierung von Masken oder Retikeln, wobei eine Komponente (1, 2...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PFUNDSTEIN, PETER, DIESCH, JOVANA-MARIA, EHM, DIRK HEINRICH, FLOTTMANN, DIRK
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES HOLOGRAPHY IRRADIATION DEVICES MATERIALS THEREFOR NUCLEAR ENGINEERING NUCLEAR PHYSICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Komponenten für optische Anlagen für den Einsatz in der Mikrolithographie, insbesondere von Komponenten für EUVL-Projektionsbelichtungsanlagen oder Anlagen zur Charakterisierung von Masken oder Retikeln, wobei eine Komponente (1, 2) oder eine Mitlaufprobe nach einem Herstellungsschritt zumindest teilweise mit Hilfe eines chemischen Ätz- oder Auflösemittels (5) aufgelöst wird, wobei das so entstandene Gemisch aus Komponente oder Mitlaufprobe einerseits und Ätz- oder Auflösemittel andererseits einer chemischen Analyse unterzogen wird.