Verfahren und Vorrichtungen zur Ladungskompensation

Verfahren zum Betreiben einer teilchenoptischen Vorrichtung (101), wobei elektrische Aufladungen einer zu untersuchenden Probe (113) vermindert werden und die teilchenoptische Vorrichtung (101) umfasst:- eine Vakuumkammer (102) zur Aufnahme einer Probe,- eine Teilchenquelle (104) zum Erzeugen eines auf die Probe gerichteten Primärteilchenstrahls,- einen Rastergenerator zum Rastern des Primärteilchenstrahls über die Probenoberfläche,- mindestens einen Detektor (110) zum Detektieren von Wechselwirkungsprodukten, die bei der Wechselwirkung zwischen Primärteilchenstrahl und Probe entstehen, wobei das Verfahren die folgenden Verfahrensschritte umfasst:a) Bereitstellen einer Probe, die mindestens eine Probenoberfläche aufweist;b) Rastern eines Primärteilchenstrahls über die Probenoberfläche für die Dauer eines Zeitintervalls I1;c) Detektieren von Wechselwirkungsprodukten;d) Einleiten eines Gasimpulses für die Dauer eines Zeitintervalls I2, so dass ein Bereich der Probenoberfläche entladen wird, und wobei sich das Zeitintervall I2und das Zeitintervall I1zeitlich überschneiden;e) Erzeugen eines ersten Bildes der Probe anhand der detektierten Wechselwirkungsprodukte;f) Auswählen eines Teilbilds aus dem ersten erzeugten Bild der Probe, derart, dass Bildbereiche, die Bildstörungen aufweisen, im Teilbild nicht enthalten sind. Methods are provided for operating a particle-optical device, wherein electrical charging of a sample to be examined is reduced. The particle-optical device includes a vacuum chamber for receiving a sample, a particle source for generating a primary particle beam directed to the sample, a scan generator for directed guidance of the primary particle beam over the sample surface, and at least one detector for detecting interaction products created during the interaction between the primary particle beam and the sample.