Messeinrichtung und Messverfahren zur Messung optischer Schichteigenschaften an transparenten Substraten
Der Erfindung, die eine Messeinrichtung zur Messung optischer Schichteigenschaften eines transparenten Substrates, umfassend eine Messfläche, an der das Substrat bei der Messung anliegt, einen auf einer Seite der Messfläche angeordneten Messkopf mit einem Empfangselement zur Erfassung einer auf eine...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Der Erfindung, die eine Messeinrichtung zur Messung optischer Schichteigenschaften eines transparenten Substrates, umfassend eine Messfläche, an der das Substrat bei der Messung anliegt, einen auf einer Seite der Messfläche angeordneten Messkopf mit einem Empfangselement zur Erfassung einer auf einer optischen Empfangsachse einfallenden Strahlung und ein Sendemittel zum Aussenden einer Strahlung auf einer optischen Sendeachse, wobei auf der dem Messkopf abgewandten Seite der Messfläche ein erstes Reflexionsmittel angeordnet ist, wobei die von dem ersten Reflexionsmittel reflektierte Strahlung von dem Empfangselement detektierbar ist, liegt u.a. die Aufgabe zugrunde, die Dunkelstromüberwachung zu verbessern und eine simultane Messung der Reflexion und Transmission zu ermöglichen. Die wird dadurch gelöst, dass die Messeinrichtung ein Unterbrechungsmittel zum zeitweisen Unterbrechen der durch das Substrat transmittierten Strahlung des ersten Reflexionsmittels umfasst. |
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