Plasmaquelle, Prozessanordnung und Verfahren

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Plasmaquelle (100a, 200a, 600) Folgendes aufweisen: einen Plasmaerzeugungsbereich (111); und eine Elektrode (102) zum Versorgen des Plasmaerzeugungsbereichs (111) mit elektrischer Energie; wobei die Elektrode (102) zumindest eine Vertiefung (104) aufwe...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Hartung, Johannes, Thom, Wilhelm, Schade, Klaus, Stahr, Frank
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Plasmaquelle (100a, 200a, 600) Folgendes aufweisen: einen Plasmaerzeugungsbereich (111); und eine Elektrode (102) zum Versorgen des Plasmaerzeugungsbereichs (111) mit elektrischer Energie; wobei die Elektrode (102) zumindest eine Vertiefung (104) aufweist, in welche der Plasmaerzeugungsbereich (111) zumindest teilweise hinein erstreckt ist; wobei die Vertiefung (104) entlang einer ersten Richtung eine größere Ausdehnung (101d) aufweist als entlang einer zweiten Richtung, die quer zu der ersten Richtung ist; und wobei die Vertiefung (104) entlang der ersten Richtung abgeschrägt ist.