System für Lasermaterialbearbeitung und Verfahren zum Einstellen der Größe und Position eines Laserfokus

Lasermaterialbearbeitungssystem mit einer Kollimationsoptik (K) mit einer Gesamtkollimationsbrennweite (fK), bestehend aus einer Strahlzuführung (Z) für divergente Strahlen (D), einer ersten und zweiten optischen Vorrichtung (L1, L2) mit positiver bzw. negativer Brennweite (f1, f2), wobei die divergenten Strahlen (D) zuerst die erste und danach die zweite optische Vorrichtung (L1, L2) durchlaufen, einer dritten, der Kollimationsoptik (K) nachgeordneten, optischen Vorrichtung (O) mit positiver Brennweite (fO), die aus der Kollimationsoptik (K) austretenden Strahlen (P) auf einen Fokus (F) bündelt, einem ersten und zweiten Stellelement (A1, A2) zum unabhängigen Bewegen der ersten bzw. der zweiten optischen Vorrichtung (L1, L2) voneinander entlang einer Strahlausbreitungsrichtung (R), wobei ein Gesamtstrahlweg (gs) zwischen der Strahlzuführung (Z) und einer bildseitigen Brennebene (B) der dritten optischen Vorrichtung (O) kleiner ist als das Zweifache der Summe der positiven Brennweite (fO) der dritten optischen Vorrichtung (O) und der Gesamtkollimationsbrennweite (fK). The invention relates to a laser material processing system comprising a collimation optic (K) having a total collimation focal length (fK), consisting of: a beam supply (Z) for divergent beams (D); a first and second optical device (Ll, L2) having a positive or negative focal length (fl, f2), wherein the divergent beams (D) first pass through the first optical device (Ll) and subsequently pass through the second optical device (L2), and leave the second optical device (L2) in a collimated state; a third optical device (0) arranged downstream of the collimation optic (K) and having a positive focal length (fO) that focuses the beams (P) leaving the collimation optic (K) in a collimated state to a focus (F); a first and second adjusting element (Al, A2) for independently moving the first or the second optical device (LI, L2) away from one another along a beam propagation direction (R), wherein a total beam path (gs) between the beam supply (Z) and an image-side focal plane (B) of the third optical device (0) is smaller that twice the sum of the positive focal length (fO) of the third optical device (0) and the total collimation focal length (fK).