Prozessieranordnung

Prozessieranordnung (100), aufweisend:* eine Prozesskammer (102) mit einem Prozessierbereich (111) zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer;* eine Transportvorrichtung (104) zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (106) entlang einer Transportrichtung (101)...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Hornbostel, Björn, Häusler, Christoph
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Prozessieranordnung (100), aufweisend:* eine Prozesskammer (102) mit einem Prozessierbereich (111) zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer;* eine Transportvorrichtung (104) zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (106) entlang einer Transportrichtung (101) in dem Prozessierbereich (111) ;* wobei die Transportvorrichtung (104) mindestens ein erstes Transportelement (104a) und mindestens ein zweites Transportelement (104b) aufweist zum Tragen des Substratträgers (106) in dem Prozessierbereich (111), wobei das mindestens eine erste Transportelement (104a) auf einer ersten Seite (111a) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist, und wobei das mindestens eine zweite Transportelement (104b) auf einer der ersten Seite (111a) gegenüberliegenden zweiten Seite (111b) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist; und* eine erste Gasseparationsstruktur (110a), welche bezüglich der Transportrichtung (101) vor und/oder hinter dem mindestens einen ersten Transportelement (104a) derart bereitgestellt ist, dass die erste Gasseparationsstruktur (110a) und der mittels der Transportvorrichtung (104) transportierte Substratträger (106) einen ersten Gasseparationsspalt (113a) bilden.