Komponente; optisches System und Lithographieanlage

Es wird Komponente (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) für eine Lithographieanlage (100), aufweisend pyrolytisches Graphit, beschrieben. The invention relates to a component (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) for a lithography installation (100), comprising a therm...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Figueredo, Stacy
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Es wird Komponente (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) für eine Lithographieanlage (100), aufweisend pyrolytisches Graphit, beschrieben. The invention relates to a component (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) for a lithography installation (100), comprising a thermally conductive material with a thermal conductivity of > 400, preferably > 700 and more preferably > 2000 W/(m⋅K).