Verfahren zur Entfernung von auf einer Oberfläche einer Einrichtung gebildeten kohlenwasserstoffhaltigen Ablagerungen
Verfahren zur Entfernung von auf einer Oberfläche (2) einer Einrichtung (3), welche Einrichtung (3) ein wenigstens einen organischen Bestandteil enthaltendes Fluidgemisch führt, gebildeten kohlenwasserstoffhaltigen Ablagerungen (A), wobei die auf der Oberfläche (2) der Einrichtung (3) gebildeten koh...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Verfahren zur Entfernung von auf einer Oberfläche (2) einer Einrichtung (3), welche Einrichtung (3) ein wenigstens einen organischen Bestandteil enthaltendes Fluidgemisch führt, gebildeten kohlenwasserstoffhaltigen Ablagerungen (A), wobei die auf der Oberfläche (2) der Einrichtung (3) gebildeten kohlenwasserstoffhaltigen Ablagerungen (A) mittels von wenigstens einer Schwingungserzeugungseinrichtung (9) erzeugter Schwingungen von der Oberfläche (2) der Einrichtung (3) entfernt werden. |
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