KÜHLBARE SPIEGELANORDNUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Spiegelfläche (2) und einem Spiegelkörper (11), an dem die Spiegelfläche einstückig angeordnet ist, und/oder einem Spiegelg...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	LIMBACH, GUIDO
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die vorliegende Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Spiegelfläche (2) und einem Spiegelkörper (11), an dem die Spiegelfläche einstückig angeordnet ist, und/oder einem Spiegelgehäuse, in dem der Spiegelkörper gelagert ist, wobei in dem Spiegelkörper und/oder dem Spiegelgehäuse mindestens ein oder mehrere Kühlräume (3, 5) ausgebildet sind, durch die ein Kühlmedium leitbar ist, sowie ein Verfahren zur Kühlung einer Spiegelanordnung.