Vorrichtung zur Messung von Feinstpartikelmassen
Vorrichtung zur Messung von Feinstpartikelmassen, umfassend ein Expositionssystem mit mindestens zwei Messkammern (1) mit identischen Geometrien, umfassend jeweils eine Depositionsfläche (4) für Partikel mit je einer auf diese gerichtete Aerosolzuführung (9) mit einem Auslassbereich (17) für die Zuf...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Vorrichtung zur Messung von Feinstpartikelmassen, umfassend ein Expositionssystem mit mindestens zwei Messkammern (1) mit identischen Geometrien, umfassend jeweils eine Depositionsfläche (4) für Partikel mit je einer auf diese gerichtete Aerosolzuführung (9) mit einem Auslassbereich (17) für die Zuführung eines Aerosols auf die Depositionsfläche, wobei mindestens eine der Depositionsflächen auf einem Schwingquarz (5) als Feinstwaage ausgeführt sind, sowie Mittel zur Erzeugung eines Potentialunterschieds zwischen den Partikeln im Gas und den Depositionsflächen, wobei an den Depositionsflächen jeweils ein Potential von maximal 50 Volt zum Erdpotential anliegt, über den Depositionsflächen jeweils ein Gitter angeordnet ist sowie an den Gittern jeweils ein Potential mit einem Potentialunterschied von mindestens 200 V zum Potential der Depositionsflächen anliegt, wobei zwischen den Gittern und den jeweiligen Depositionsflächen sich ein elektrisches Feld aufspannt.
A device for measuring superfine particles masses includes an exposure system with at least two measurement chambers having an identical geometry. Each measurement chamber has a deposition surface for the superfine particles which each have an aerosol feed line. The aerosol feed line has an outlet region to feed an aerosol onto the deposition surface, a means for generating a potential difference between the superfine particles in the aerosol and the deposition surface, and a grid arranged above the deposition surface. The outlet region has a widened outlet cross section having a constant distance from the deposition surface. At least one deposition surface is arranged on a piezoelectric crystal as a superfine balance. A first potential corresponding to a ground potential is present at each deposition surface. A second potential having a potential difference of at least 200 V in relation to the first potential is present at each grid. |
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