Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung bandförmiger Substrate

Der Erfindung, welche eine Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung bandförmiger Substrate betrifft, liegt die Aufgabe zugrunde, eine Lösung anzugeben, womit ein mechanisch einfacher, auf zumindest einer Oberfläche des bandförmigen Substrats berührungsfreier Transport des bandförmige...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BOTZLER, PETER, KAMMER, MANFRED, SALOMON, JAROSLAVA, SCHREIL, MANFRED, HEINRICH, HANS-JÜRGEN, PURATH, ANDREAS, DEUS, CARSTEN, OBST, HENRIK
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Der Erfindung, welche eine Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung bandförmiger Substrate betrifft, liegt die Aufgabe zugrunde, eine Lösung anzugeben, womit ein mechanisch einfacher, auf zumindest einer Oberfläche des bandförmigen Substrats berührungsfreier Transport des bandförmigen Substrats ermöglicht wird. Die Aufgabe wird anordnungsseitig dadurch gelöst, dass auf dem Transportweg des bandförmigen Substrats entlang einer Substrattransportbahn, von der Abwickelrolle zur Aufwickelrolle, in einem evakuierten Bereich der Vakuumbeschichtungsanlage, ein das Substrat berührungsfrei führendes Bandführungselement angeordnet ist. Die Aufgabe wird verfahrensseitig dadurch gelöst, dass das bandförmige Substrat berührungsfrei über ein in einem Vakuumbereich angeordnetes Bandführungselement, aus welches ein Trägergas austritt, geführt wird.