Layoutentwurfsverfahren für Doppelstrukturierung

Layoutentwurfsverfahren für Doppelstrukturierung, das aufweist:Definieren von kritischen Pfaden, die einen ersten Pfad (CP1) und einen zweiten Pfad (CP2) aufweisen, auf einem Schaltungsschema (40); undDefinieren eines Doppelstrukturierungslayouts, das in ein erstes Maskenlayout mit einer ersten Farb...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Park, Jae-Ho, Song, Tae-Joong, Jeong, Kwang-Ok
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CALCULATING CINEMATOGRAPHY COMPUTING COUNTING ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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