Layoutentwurfsverfahren für Doppelstrukturierung

Layoutentwurfsverfahren für Doppelstrukturierung, das aufweist:Definieren von kritischen Pfaden, die einen ersten Pfad (CP1) und einen zweiten Pfad (CP2) aufweisen, auf einem Schaltungsschema (40); undDefinieren eines Doppelstrukturierungslayouts, das in ein erstes Maskenlayout mit einer ersten Farbe und ein zweites Maskenlayout mit einer zweiten Farbe geteilt ist, wobei das Doppelstrukturierungslayout dem Schaltungsschema (40) entspricht,wobei das Definieren des Doppelstrukturierungslayouts ein Verankern der kritischen Pfade auf dem Schaltungsschema (40) aufweist,wobei das Verankern der kritischen Pfade auf dem Schaltungsschema (40) ein Verankern der kritischen Pfade durch Vordefinieren farbiger Layouts von Polygonen, die den kritischen Pfaden entsprechen, aufweist,wobei das Vordefinieren der farbigen Layouts der Polygone, die den kritischen Pfaden entsprechen, ein Anwenden einer Mehrzahl von Farben auf ein erstes Polygon, das dem ersten Pfad (CP1) entspricht, und ein zweites Polygon, das dem zweiten Pfad (CP2) entspricht, und ein Anpassen von Farbverhältnissen des ersten Polygons und des zweiten Polygons aufweist. A double patterning layout design method includes defining critical paths including a first path and a second path on a schematic circuit, and defining a double patterning layout divided into a first mask layout having a first color and a second mask layout having a second color, the double patterning layout corresponding to the schematic circuit. The defining of the double patterning layout includes anchoring the critical paths on the schematic circuit.