Verfahren zum Erzeugen einer freistehenden, abgeschirmten Metallelektrode durch einen Einzelmaskenprozess und ein Verfahren zum Freilegen einer Elektrodenspitze

Verfahren zum Herstellen einer freistehenden, abgeschirmten Metallelektrode, insbesondere Goldelektrode, durch einen Einzelmaskenprozess, umfassend die folgenden Verfahrensschritte: - Bereitstellen eines Siliziumwafers (1), - Aufbringen einer ersten Isolationsschicht (3), insbesondere einer Silizium...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Schulz, Kathrin, Lacher, Manfred, Steltenkamp, Siegfried, Schmitz, Sam, Peter, Holik
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY PERFORMING OPERATIONS PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS SEMICONDUCTOR DEVICES TRANSPORTING
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