Modellbasierte Steuerung einer optischen Abbildungseinrichtung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung eines einem ersten Ort einer optischen Abbildungseinrichtung (101) zugeordneten aktuellen Eingangswerts einer Eingangsgröße für eine Steuereinheit (108) der Abbildungseinrichtung, die insbesondere für die Mikrolithographie ausgebildet ist, bei dem in einem Erfassungsschritt (112.9) an einem zweiten Ort wenigstens ein aktueller Erfassungswert einer Erfassungsgröße wenigstens einer Erfassungseinrichtung (110.6) der Abbildungseinrichtung erfasst wird und in einem Bestimmungsschritt (112.3) eine Bestimmung des aktuellen Eingangswerts der Eingangsgröße unter Verwendung des wenigstens einen aktuellen Erfassungswerts und einer vorgebbaren ersten Relation (111.3) erfolgt. In einem ersten Berechnungsschritt (112.10) des Bestimmungsschritts (112.3) erfolgt unter Verwendung einer zweiten Relation (111.4) eine rechnerische Ermittlung eines aktuellen rechnerischen Wertes der Erfassungsgröße an dem zweiten Ort der Erfassungseinrichtung (110.6). In einem Vergleichsschritt (112.11) des Bestimmungsschritts (112.3) erfolgt dann ein Vergleich des aktuellen rechnerischen Wertes der Erfassungsgröße mit dem aktuellen Erfassungswert der Erfassungsgröße. In einem Korrekturschritt (112.13) des Bestimmungsschritts (112.3) wird dann in Abhängigkeit von einem Ergebnis des Vergleichsschritts (112.11) unter Nutzung einer Beziehung zwischen der ersten Relation (111.3) und der zweiten Relation (111.4) eine Korrektur der ersten Relation (111.3) vorgenommen. Schließlich erfolgt in einem dem Korrekturschritt (112.13) nachfolgenden zweiten Berechnungsschritt (112.5) des Bestimmungsschritts (112.3) eine Berechnung des aktuellen Eingangswerts der Eingangsgröße unter Verwendung der ersten Relation (111.3). The disclosure provides a method of determining an actual input value of an input variable for a control unit of a microlithography imaging device. The actual input value is assigned to a first location of the microlithography optical imaging device. The method includes: a) detecting, at a second location of the microlithography optical imaging device, an actual detection value of a detection variable of a detection device of the microlithography optical imaging device; b) using a second relation to computationally ascertain an actual computational value of the detection variable at the second location; c) comparing the actual computational value of the detection variable with the actual detection value of the detection variable