Verfahren zur Regelung eines Magnetronsputter-Prozesses

Verfahren zur Regelung eines Gasflusses in einem Magnetronsputter-Prozess in einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einem Vakuumraum, in dem ein Magnetron angeordnet ist und bei dem ein Prozessgas eingeleitet wird, wobei das Prozessgas aus einem ersten Prozessgasteil und zumindest einem zweiten Prozess...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Linß, Volker
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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