Verfahren und Vorrichtung zur Messung optischer Schichteigenschaften an flexiblen Substraten

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Messung optischer Eigenschaften flexibler Substrate mit mindestens einer Walze, wobei das Substrat in Kontakt mit mindestens einer Walzenoberfläche ist sowie zumindest einer Messeinrichtung und einer Auswerteeinrichtung mit der die Reflex...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PRÖHL, HOLGER, LIESS, UDO
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING METALLURGY PHYSICS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Messung optischer Eigenschaften flexibler Substrate mit mindestens einer Walze, wobei das Substrat in Kontakt mit mindestens einer Walzenoberfläche ist sowie zumindest einer Messeinrichtung und einer Auswerteeinrichtung mit der die Reflexion und Transmission gemessen wird. Die Aufgabe der Erfindung ist es, die erschwerte Auswertung von Messsignalen an hochreflektierenden Walzen zu beheben. Die Aufgabe wird vorrichtungs- und verfahrensseitig dadurch gelöst, dass eine Walzenoberfläche auf ihrem Umfang ein erstes Segment mit einem ersten Reflexionswert und ein zweites Segment mit einem zweiten Reflexionswert aufweist, wobei das erste Segment und das zweite Segment auf dem Umfang der Walzenoberfläche nebeneinander abwechselnd angeordnet sind. Es wird ein erster Reflexionswert in einem ersten Segment der Walzenoberfläche und ein zweiter Reflexionswert in einem zweiten Segment der Walzenoberfläche bestimmt, wobei das erste und das zweite Segment der Walzenoberfläche unterschiedliche Reflexionswerte aufweisen.