Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden einer Schicht mittels Magnetronsputtern

Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht mittels Magnetronsputtern in einer Vakuumdurchlaufbeschichtungsanlage mit einem Vakuumraum, einer Substratebene (8) über der ein Magnetron (1) mit zumindest einem Target (10) und mit einem dem Target (10) zugeordneten einen Racetrack erzeugenden Magnetsystem...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Linß, Volker, Rank, Rolf
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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