Silane, Hybridpolymere und Photolack mit Positiv-Resist Verhalten sowie Verfahren zur Herstellung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein spezielles Heteropolymer, nämlich eine Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensat mit Positiv-Resist-Verhalten, das sich durch Polykondensation bzw. Copolykondensation speziell modifizierter Silane auszeichnet. Die Erfindung betrifft ebenso monomere Silane, aus denen...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DOMANN, GERHARD, TRÖTSCHEL, DANIELA
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAININGELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN,SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC CHEMISTRY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die vorliegende Erfindung betrifft ein spezielles Heteropolymer, nämlich eine Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensat mit Positiv-Resist-Verhalten, das sich durch Polykondensation bzw. Copolykondensation speziell modifizierter Silane auszeichnet. Die Erfindung betrifft ebenso monomere Silane, aus denen sich die entsprechenden Heteropolymere, sprich die Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensate herstellen lassen. Die erfindungsgemäße Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensate sind für einen Photolack einsetzbar, der ein Positiv-Resist-Verhalten aufweist. Zudem betrifft die Erfindung entsprechende Verfahren sowohl zur Herstellung der Silane, der Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensate bzw. ein Verfahren zur photochemischen Strukturierung des erfindungsgemäßen Photolacks, der auf den Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensaten basiert. The present invention relates to a special heteropolymer, namely a silicic acid (hetero)poly(co)condensate with positive-resist behavior which is distinguished by polycondensation or copolycondensation of specially modified silanes. The invention relates likewise to monomeric silanes from which the corresponding heteropolymers, i.e. the silicic acid (hetero)poly(co)condensates, can be produced. The silicic acid (hetero)poly(co)condensates according to the invention can be used for a photoresist which has positive-resist behavior. In addition, the invention relates to corresponding methods both for the production of the silanes, the silicic acid (hetero)poly(co)condensates or a method for photochemical structuring of the photoresist according to the invention which is based on the silicic acid (hetero)poly(co)condensates.