Verfahren zur Vermeidung von Artefakten beim Serial Block Face Imaging
Die Erfindung betrifft Verfahren zum Erkennen und Kompensieren von Artefakten beim Aufnehmen von Bilderserien der Probe mittels einer teilchenoptischen Vorrichtung. Dabei umfasst die teilchenoptische Vorrichtung mindestens eine Teilchenquelle, die einen Primärteilchenstrahl erzeugt, mindestens einen...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Die Erfindung betrifft Verfahren zum Erkennen und Kompensieren von Artefakten beim Aufnehmen von Bilderserien der Probe mittels einer teilchenoptischen Vorrichtung. Dabei umfasst die teilchenoptische Vorrichtung mindestens eine Teilchenquelle, die einen Primärteilchenstrahl erzeugt, mindestens einen Detektor zum Detektieren von Wechselwirkungsprodukten, die bei der Wechselwirkung von Primärteilchenstrahl und Probe entstehen, eine Kammer zur Aufnahme der Probe, sowie eine Schneideinrichtung mit Messer. Ein vorteilhaftes erfindungsgemäßes Verfahren umfasst die folgenden Verfahrensschritte: a) Aufnehmen eines ersten Bildes der Probe mittels des Detektors, wobei die Teilchen des Primärteilchenstrahls eine erste mittlere Energie derart aufweisen, dass die mit dem Detektor detektierten Wechselwirkungsprodukte überwiegend Probeninformation aus einer unterhalb der Probenoberfläche liegenden Probenschicht enthalten b) Entfernen der äußersten Probenschicht mithilfe der Schneideinrichtung c) Aufnehmen eines zweiten Bildes der Probe mittels des Detektors, wobei die Teilchen des Primärteilchenstrahls eine zweite mittlere Energie derart aufweisen, dass die mit dem Detektor detektierten Wechselwirkungsprodukte überwiegend Probeninformation aus der Oberflächenschicht der Probe enthalten d) Berechnen der seitlichen Verschiebung/des seitlichen Versatzes der Probe aus einem Vergleich des ersten und des zweiten Bilds e) Kompensieren des seitlichen Versatzes
A method includes capturing a first image of the sample via a detector, wherein the particles of the primary particle beam have a first average energy so that the interaction products detected by the detector predominantly contain sample information from a sample layer lying below the sample surface. The method also includes removing the outermost sample layer with the aid of the cutting device, and capturing a second image of the sample via the detector, wherein the particles of the primary particle beam have a second average energy so that the interaction products detected by the detector predominantly contain sample information from the surface layer of the sample. The method further includes calculating the lateral shift/lateral offset of the sample from a comparison of the first and second images, and compensating for the lateral offset. |
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