Verfahren zur Beschichtung von Substraten

Verfahren zur Beschichtung von Substraten für optische Elemente mit einer Freiformbeschichtung, bei dem* ein Substrat um eine Spinachse rotiert,* zwischen einer zu beschichtenden Fläche des rotierenden Substrats und einer Quelle mit Beschichtungsmaterial ein Abschirmungselement mit einer Außenkontur angeordnet wird,* wobei die von der Außenkontur eingeschlossene Fläche die zu beschichtende Fläche zumindest teilweise abdeckt* und die Spinachse in Abhängigkeit von dem Drehwinkel des Substrats um die Spinachse relativ zur Quelle verschoben wird,* wobei der Drehwinkel des Substrats durch die Rotation des Substrats um die Spinachse zu zwei verschiedenen Zeitpunkten t1 und t2 entsteht, dadurch gekennzeichnet, dass* die Rate, mit der die Quelle Beschichtungsmaterial abgibt, in Abhängigkeit von dem Drehwinkel des Substrats zeitlich variabel eingestellt wird,* wodurch die Auftreffrate von Beschichtungsmaterial auf der zu beschichtenden Fläche auf einem Bogenelement der zu beschichtenden Fläche bezogen auf die Spinachse für unterschiedliche Drehwinkel des Substrats um die Spinachse variabel eingestellt wird. The method involves rotating a substrate (10) around a spin axis (12). A source (16) of coating material is arranged between to-be coated surfaces (14) of rotating substrate. A shield element (18) is provided with an outer contour (20), such that an area enclosed by the surface of outer contour is provided for partially covering to-be coated surface. The arrival rate of coating material on to-be coated surface of sheet element is variably adjusted relative to spin axis for different rotation angles of substrate, in response to the rotation angle of substrate relative to spin axis.