Vakuum-Substratbehandlungsanlage

Vakuum-Substratbehandlungsanlage für plattenförmige Substrate (8), umfassend eine von Kammerwänden (1) begrenzte Vakuumkammer mit einem schlitzförmigen Ventil zum Einführen plattenförmiger Substrate (8) in die Vakuumkammer, wobei an der Außenseite der Vakuumkammer im Bereich des schlitzförmigen Vent...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Mosshammer, Steffen, Bauer, Reinhardt, Hofmann, Michael, Smolke, Matthias, Dr, Dsaak, Torsten
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Vakuum-Substratbehandlungsanlage für plattenförmige Substrate (8), umfassend eine von Kammerwänden (1) begrenzte Vakuumkammer mit einem schlitzförmigen Ventil zum Einführen plattenförmiger Substrate (8) in die Vakuumkammer, wobei an der Außenseite der Vakuumkammer im Bereich des schlitzförmigen Ventils eine Führungseinrichtung mit mindestens zwei Führungselementen (5) angeordnet ist, wobei jedes Führungselement (5) an einem Ende des schlitzförmigen Ventils so angeordnet ist, dass ein plattenförmiges Substrat (8) zentriert in das schlitzförmige Ventil einführbar ist. The vacuum-substrate treatment plant has a vacuum chamber with a slot-shaped valve for inserting plate-shaped substrate (8) in the vacuum chamber, where a guiding unit is arranged at the outer side of the vacuum chamber in the area of the slot-shaped valve with two guiding elements (5). Each guiding element is arranged at an end of the slot-shaped valve, so that the plate-shaped substrate is inserted in the center in the slot-shaped substrate. The guiding elements have an insertion bevel on their sides facing away from the slot-shaped valve.