Verfahren und Vorrichtung zur Abstandsmessung mit einer diffraktiven Struktur

Es wird ein Verfahren zur Messung eines Abstands (d) zwischen einer Referenzebene (1) und einer zu der Referenzebene (1) parallelen Messebene (3) angegeben, bei dem durch Beleuchtung einer diffraktiven Struktur (2), die in der Referenzebene (1) angeordnet ist, mindestens ein Axialfokus (5) erzeugt w...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HARZENDORF, TORSTEN, VOGLER, UWE, VOELKEL, REINHARD, STUERZEBECHER, LORENZ, ZEITNER, UWE D
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Es wird ein Verfahren zur Messung eines Abstands (d) zwischen einer Referenzebene (1) und einer zu der Referenzebene (1) parallelen Messebene (3) angegeben, bei dem durch Beleuchtung einer diffraktiven Struktur (2), die in der Referenzebene (1) angeordnet ist, mindestens ein Axialfokus (5) erzeugt wird, der gegen eine auf der Referenzebene (1) und der Messebene (3) senkrecht stehende Achse um einen Winkel α geneigt ist. Der Abstand (d) wird aus der Position eines Auftreffpunkts des mindestens einen Axialfokus (5) in der Messebene (3) oder aus der Position eines Auftreffpunkts des an der Messebene (3) reflektierten Axialfokus (5) in der Referenzebene (1) ermittelt. Weiterhin wird eine für das Verfahren geeignete Vorrichtung zur Messung eines Abstands (d) zwischen einer Referenzebene (1) und einer zu der Referenzebene (1) parallelen Messebene (3) angegeben. A method for measuring a distance (d) between a reference plane (1) and a measurement plane (3) parallel to the reference plane (1) is specified, in which at least one axial focus (5) which is inclined at an angle alpha in relation to an axis perpendicular to the reference plane (1) and the measurement plane (3) is generated by illuminating a diffractive structure (2) arranged in the reference plane (1). The distance (d) is established from the position of an impact point of the at least one axial focus (5) in the measurement plane (3) or from the position of an impact point in the reference plane (1) of the axial focus (5) reflected on the measurement plane (3). Furthermore, a device, which is suitable for the method, for measuring a distance (d) between a reference plane (1) and a measurement plane (3) parallel to the reference plane (1) is specified.