Optoelektronischer Halbleiterchip

Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip angegeben mit: - einer Vielzahl aktiver Bereiche (1), die beabstandet zueinander angeordnet sind, und - einem Träger (2), der an einer Unterseite (1a) der Vielzahl aktiver Bereiche (1) angeordnet ist, wobei - einer der aktiven Bereiche (1) eine Haupterst...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: WAAG, ANDREAS, PFEUFFER, ALEXANDER, STRASBURG, MARTIN, MANDL, MARTIN, LEDIG, JOHANNES, NEUMANN, RICHARD, RODE, PATRICK, KOELPER, CHRISTOPHER
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
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Beschreibung
Zusammenfassung:Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip angegeben mit: - einer Vielzahl aktiver Bereiche (1), die beabstandet zueinander angeordnet sind, und - einem Träger (2), der an einer Unterseite (1a) der Vielzahl aktiver Bereiche (1) angeordnet ist, wobei - einer der aktiven Bereiche (1) eine Haupterstreckungsrichtung (R) aufweist, - der aktive Bereich (1) einen Kernbereich (10) aufweist, der mit einem ersten Halbleitermaterial gebildet ist, - der aktive Bereich (1) eine aktive Schicht (11) aufweist, die den Kernbereich (10) zumindest in Richtungen (x, y) quer zur Haupterstreckungsrichtung (R) des aktiven Bereichs (1) bedeckt, und - der aktive Bereich (1) eine Deckschicht (12) aufweist, die mit einem zweiten Halbleitermaterial gebildet ist und die aktive Schicht (11) zumindest in Richtungen (x, y) quer zur Haupterstreckungsrichtung (R) des aktiven Bereichs (11) bedeckt. An optoelectronic semiconductor chip includes a number active regions that are arranged at a distance from each other and a substrate that is arranged on an underside of the active regions. One of the active regions has a main extension direction. The active region has a core region that is formed using a first semiconductor material. The active region has an active layer that covers the core region at least in directions perpendicular to the main extension direction of the active region. The active region has a cover layer that is formed using a second semiconductor material and covers the active layer at least in directions perpendicular to the main extension direction of the active region.