Verfahren zur Ausbildung geschlossener flächiger Schichten aus sp2 - hybridisierten Kohlenstoffatomen oder Graphen auf der Oberfläche eines Substrats und mit dem Verfahren beschichtetes Substrat
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ausbildung geschlossener flächiger Schichten aus sp2-hybridisierten Kohlenstoffatomen oder Graphen auf der Oberfläche eines Substrats und mit dem Verfahren beschichtetes Substrat. Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden unter Vakuumbedingungen dur...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | ger |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ausbildung geschlossener flächiger Schichten aus sp2-hybridisierten Kohlenstoffatomen oder Graphen auf der Oberfläche eines Substrats und mit dem Verfahren beschichtetes Substrat. Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden unter Vakuumbedingungen durch eine zwischen einer Anode und einer Kathode, die aus Graphit gebildet ist, elektrische Bogenentladungen gezündet und betrieben. Dabei wird ein Plasma gebildet, von dem einfach geladene Kohlenstoffionen durch ein Filter, zur Separation größerer Partikel, auf eine Oberfläche des Substrats gerichtet werden und dadurch eine Schicht aus Kohlenstoff in der Graphenmodifikation oder mit sp2-hybridisierten Kohlenstoffatomen ausgebildet wird. In einer Alternative kann eine Zusatzbehandlung der auf der Substratoberfläche ausgebildeten Kohlenstoffschicht durchgeführt werden, bei der ein Energieeintrag erfolgt. In einer zweiten Alternative, die allein oder zusätzlich durchgeführt werden kann, soll die effektive Energie, mit der Kohlenstoffionen auf die Substratoberfläche auftreffen, vor dem Auftreffen auf die Oberfläche des Substrats reduziert werden. |
---|