Device for performing plasma coating on surface of substrate, for use in manufacturing of e.g. cylinder bore, has wire-shaped or powder material that is selectively processed in region of electrode which generates auxiliary voltage arc

The device (1) has anode (8) and cathode (9) that are applied with voltage arc. A gas supply unit and material supply unit (10) are separated from one another on coating surface (2) of substrate (3). The material fed by material supply unit is melted by heated gas received through atomizing gas rele...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KELLER, SILVANO, AMSBERG, JAN, KLIMEK, KLAUS STEFAN, VOGELSANG, REINHARD
Format:	Patent
Sprache:	eng ; ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The device (1) has anode (8) and cathode (9) that are applied with voltage arc. A gas supply unit and material supply unit (10) are separated from one another on coating surface (2) of substrate (3). The material fed by material supply unit is melted by heated gas received through atomizing gas release aperture at plasma temperature, so that melted particles of material are applied to coating surface through atomizing gas jet (12). The wire-shaped or powder material is selectively processed in the region of electrode (11) that generates auxiliary voltage arc to melt material. Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zum Plasmabeschichten einer Oberfläche (2) eines Substrats (3), die mit einem Brennerkopf (4) ausgestattet ist, welcher am unteren Ende eines eine nicht dargestellte Gaszuführung aufnehmenden Brennerschafts (5) angeordnet ist. Der Brennerschaft (5) der Vorrichtung (1) ragt in einen inneren Bereich des hohlzylindrischen Substrats (3) hinein und ist um eine vertikale Achse (6) schwenkbeweglich angeordnet. Auf diese Weise kann eine die Innenwandfläche bildende Oberfläche (2) mit einer Beschichtung (7) versehen werden, indem der Brennerschaft (5) rotierend angetrieben wird. An dem Brennerschaft (5) ist eine Zuführung (10) vorgesehen, durch die alternativ ein nicht gezeigter Draht oder ein Pulver zugeführt und in dem Gasstrom aufgeschmolzen wird. Die geschmolzenen Partikel des Draht- oder Pulvermaterials gelangen so mit dem Zerstäubergasstrahl (12) auf die Oberfläche (2) des Substrats 3. Die Vorrichtung (1) ist zur wahlweisen Verarbeitung eines pulverförmigen oder drahtförmigen Materials mit zumindest einer im Bereich der Zerstäubergasaustrittsöffnung angeordneten Elektrode (11) zur Erzeugung eines Hilfslichtbogens zum Aufschmelzen des drahtförmigen Materials ausgestattet.