Method for producing electrically conductive pattern on and/or in layer or material or substrate, involves increasing electrical conductivity of irradiated portions of conductive pattern with respect to that of surrounding layer

The structure-forming regions of transparent conductive oxide (11) are irradiated by laser, and are made electrically conductive. The electrical conductivity of the irradiated portions of the conductive pattern is increased with respect to the electric conductivity of the surrounding layer. The applied layer is transparent to electromagnetic radiation of 200-3000nm, preferably 300-1500nm. Independent claims are included for the following: (1) substrate; and (2) device for producing electrically conductive pattern on and/or in layer or material or substrate. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren, ein Substrat sowie eine Vorrichtung zum Erzeugen von elektrisch leitfähigen Strukturen auf oder in transparenten Schichten oder Schichtsystemen mittels Laserbestrahlung. Die zumindest eine Schicht kann transparente Metalloxid-Schichten, bevorzugt Titandioxid-Schichten, umfassen. Dabei kann die applizierte Schicht mittels einer Laserbestrahlung derart strukturiert werden, dass die die Struktur bildenden Bereiche durch die Laserbestrahlung elektrisch leitfähiger gemacht werden oder die elektrische Leitfähigkeit in den bestrahlten Bereichen gegenüber der elektrischen Leitfähigkeit der umgebenden applizierten Schicht durch die Laserbestrahlung erhöht wird. Die Laserbestrahlung bewirkt dabei eine Phasenumwandlung des bestrahlten Bereiches der Schicht von einer amorphen Struktur in eine Anatas-Phase mit veränderten elektrischen Eigenschaften.