Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für Rohrkathoden

Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden in einer Vakuumkammer einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle und einer innerhalb der Rohrkathode befindlichen ortsfesten und sich längs derselben ersteckenden Magnetanordnung, wobei die Hochfrequenz-Stromquelle über eine kapazitive HF-Einspeisung in Form eines Koppelkondensators mit der Rohrkathode innerhalb der Vakuumkammer gekoppelt ist, dadurch gekennzeichnet, dass der Koppelkondensator (18) der Hochfrequenz-Einspeisung (9) aus einem Teil der Oberfläche der Rohrkathode (1) und einer Metallplatte oder -folie (10) besteht, die die Rohrkathode (1) wenigstens teilweise in einem vorgegebenen Abstand umschließt. An arrangement is provided for feeding in HF current for rotatable tubular cathodes in a vacuum chamber of a plasma coating system as well as a high frequency current source. Located inside the tubular cathode is a magnet arrangement that extends along said tubular cathode for generating a magnetic field. The arrangement enables a low loss infeed of HF current, so that a particularly homogeneous sputter removal from the tubular cathode is guaranteed. The HF current source is coupled to the tubular cathode inside the vacuum chamber by a capacitive infeed of HF current in the form of a coupling capacitor. The coupling capacitor includes a part of the surface of the tubular cathode and a metal plate or metal film that surrounds the tubular cathode, at least partially, at a specified distance.