Halbleitervorrichtung, Herstellungsverfahren dafür und Halbleitergehäuse mit dieser Halbleitervorrichtung

In einer Ausführungsform weist eine Halbleitervorrichtung (1, 2) ein Halbleitersubstrat (10) auf, welches eine erste Oberfläche (11) und eine zweite Oberfläche (12) gegenüber der ersten Oberfläche (11) hat. Die zweite Oberfläche (12) definiert einen Umverdrahtungsgraben (102, 103). Das Substrat (10)...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: YOON, MIN-SEUNG, SONG, HO-GEON, JEONG, SE-YOUNG, CHO, TAE-JE, JANG, DONG-HYEON, LEE, HO-JIN, KANG, UN-BYOUNG
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!