Halbleitervorrichtung, Herstellungsverfahren dafür und Halbleitergehäuse mit dieser Halbleitervorrichtung
In einer Ausführungsform weist eine Halbleitervorrichtung (1, 2) ein Halbleitersubstrat (10) auf, welches eine erste Oberfläche (11) und eine zweite Oberfläche (12) gegenüber der ersten Oberfläche (11) hat. Die zweite Oberfläche (12) definiert einen Umverdrahtungsgraben (102, 103). Das Substrat (10)...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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