Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten

Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten (2), die folgendes aufweist: ein Gehäuse (3), das eine Prozesskammer (8) umgibt; wenigstens eine Substrataufnahme (10) in dem Gehäuse (3); eine rohrförmige, erste Mikrowellenelektrode (30) zum Erzeugen eines Plasmas, wobei eine Rohrachse der ersten Mikrow...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	NIESS, JÜRGEN, BECKMANN, WILHELM
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING
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