Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten
Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten (2), die folgendes aufweist: ein Gehäuse (3), das eine Prozesskammer (8) umgibt; wenigstens eine Substrataufnahme (10) in dem Gehäuse (3); eine rohrförmige, erste Mikrowellenelektrode (30) zum Erzeugen eines Plasmas, wobei eine Rohrachse der ersten Mikrow...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | NIESS, JÜRGEN BECKMANN, WILHELM |
| description | Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten (2), die folgendes aufweist: ein Gehäuse (3), das eine Prozesskammer (8) umgibt; wenigstens eine Substrataufnahme (10) in dem Gehäuse (3); eine rohrförmige, erste Mikrowellenelektrode (30) zum Erzeugen eines Plasmas, wobei eine Rohrachse der ersten Mikrowellenelektrode (30) auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine Bewegungseinheit, welche die erste Mikrowellenelektrode (30) trägt und geeignet, ist die erste Mikrowellenelektrode (30) so zu bewegen, dass die Rohrachse die Substrataufnahme (10) überstreicht; eine erste Gasführung (42) mit einem ersten Auslass, der sich in die erste Mikrowellenelektrode (30) öffnet und auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine zweite Gasführung (40), die die erste Gasführung (42) wenigstens teilweise umgibt und einen zweiten Auslass aufweist, der koaxial zum ersten Auslass ausgerichtet ist, wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit der Bewegungseinheit verbunden sind, um gemeinsam mit der ersten Mikrowellenelektrode (30) bewegt zu werden, und wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit unterschiedlichen Gasquellen verbindbar sind; und wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50), wobei die wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50) und/oder die Substrataufnahme (10) bewegbar sind, um ein auf der Substrataufnahme (10) befindliches Substrat (2) in einem Wirkbereich der wenigstens einen zweiten Mikrowellenelektrode (50) oder außerhalb des Wirkbereichs anzuordnen. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102011015263B4</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102011015263B4</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102011015263B43</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZDALyy8qykzOKCnNS1cozUtRCEstSkvMKErNU6gqzVVwSs1IzEtJzclTKMvPUwguTSouKUosSc3jYWBNS8wpTuWF0twMqm6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXxLq6GBkYGhoYGhqZGZsZOJsbEqgMAGBUvKQ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten</title><source>esp@cenet</source><creator>NIESS, JÜRGEN ; BECKMANN, WILHELM</creator><creatorcontrib>NIESS, JÜRGEN ; BECKMANN, WILHELM</creatorcontrib><description>Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten (2), die folgendes aufweist: ein Gehäuse (3), das eine Prozesskammer (8) umgibt; wenigstens eine Substrataufnahme (10) in dem Gehäuse (3); eine rohrförmige, erste Mikrowellenelektrode (30) zum Erzeugen eines Plasmas, wobei eine Rohrachse der ersten Mikrowellenelektrode (30) auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine Bewegungseinheit, welche die erste Mikrowellenelektrode (30) trägt und geeignet, ist die erste Mikrowellenelektrode (30) so zu bewegen, dass die Rohrachse die Substrataufnahme (10) überstreicht; eine erste Gasführung (42) mit einem ersten Auslass, der sich in die erste Mikrowellenelektrode (30) öffnet und auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine zweite Gasführung (40), die die erste Gasführung (42) wenigstens teilweise umgibt und einen zweiten Auslass aufweist, der koaxial zum ersten Auslass ausgerichtet ist, wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit der Bewegungseinheit verbunden sind, um gemeinsam mit der ersten Mikrowellenelektrode (30) bewegt zu werden, und wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit unterschiedlichen Gasquellen verbindbar sind; und wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50), wobei die wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50) und/oder die Substrataufnahme (10) bewegbar sind, um ein auf der Substrataufnahme (10) befindliches Substrat (2) in einem Wirkbereich der wenigstens einen zweiten Mikrowellenelektrode (50) oder außerhalb des Wirkbereichs anzuordnen.</description><language>ger</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; PERFORMING OPERATIONS ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; THEIR RELEVANT APPARATUS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2014</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140724&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102011015263B4$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76294</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140724&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102011015263B4$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>NIESS, JÜRGEN</creatorcontrib><creatorcontrib>BECKMANN, WILHELM</creatorcontrib><title>Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten</title><description>Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten (2), die folgendes aufweist: ein Gehäuse (3), das eine Prozesskammer (8) umgibt; wenigstens eine Substrataufnahme (10) in dem Gehäuse (3); eine rohrförmige, erste Mikrowellenelektrode (30) zum Erzeugen eines Plasmas, wobei eine Rohrachse der ersten Mikrowellenelektrode (30) auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine Bewegungseinheit, welche die erste Mikrowellenelektrode (30) trägt und geeignet, ist die erste Mikrowellenelektrode (30) so zu bewegen, dass die Rohrachse die Substrataufnahme (10) überstreicht; eine erste Gasführung (42) mit einem ersten Auslass, der sich in die erste Mikrowellenelektrode (30) öffnet und auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine zweite Gasführung (40), die die erste Gasführung (42) wenigstens teilweise umgibt und einen zweiten Auslass aufweist, der koaxial zum ersten Auslass ausgerichtet ist, wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit der Bewegungseinheit verbunden sind, um gemeinsam mit der ersten Mikrowellenelektrode (30) bewegt zu werden, und wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit unterschiedlichen Gasquellen verbindbar sind; und wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50), wobei die wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50) und/oder die Substrataufnahme (10) bewegbar sind, um ein auf der Substrataufnahme (10) befindliches Substrat (2) in einem Wirkbereich der wenigstens einen zweiten Mikrowellenelektrode (50) oder außerhalb des Wirkbereichs anzuordnen.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>THEIR RELEVANT APPARATUS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2014</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDALyy8qykzOKCnNS1cozUtRCEstSkvMKErNU6gqzVVwSs1IzEtJzclTKMvPUwguTSouKUosSc3jYWBNS8wpTuWF0twMqm6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXxLq6GBkYGhoYGhqZGZsZOJsbEqgMAGBUvKQ</recordid><startdate>20140724</startdate><enddate>20140724</enddate><creator>NIESS, JÜRGEN</creator><creator>BECKMANN, WILHELM</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20140724</creationdate><title>Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten</title><author>NIESS, JÜRGEN ; BECKMANN, WILHELM</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102011015263B43</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2014</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>THEIR RELEVANT APPARATUS</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>NIESS, JÜRGEN</creatorcontrib><creatorcontrib>BECKMANN, WILHELM</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>NIESS, JÜRGEN</au><au>BECKMANN, WILHELM</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten</title><date>2014-07-24</date><risdate>2014</risdate><abstract>Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten (2), die folgendes aufweist: ein Gehäuse (3), das eine Prozesskammer (8) umgibt; wenigstens eine Substrataufnahme (10) in dem Gehäuse (3); eine rohrförmige, erste Mikrowellenelektrode (30) zum Erzeugen eines Plasmas, wobei eine Rohrachse der ersten Mikrowellenelektrode (30) auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine Bewegungseinheit, welche die erste Mikrowellenelektrode (30) trägt und geeignet, ist die erste Mikrowellenelektrode (30) so zu bewegen, dass die Rohrachse die Substrataufnahme (10) überstreicht; eine erste Gasführung (42) mit einem ersten Auslass, der sich in die erste Mikrowellenelektrode (30) öffnet und auf die Substrataufnahme (10) gerichtet ist; eine zweite Gasführung (40), die die erste Gasführung (42) wenigstens teilweise umgibt und einen zweiten Auslass aufweist, der koaxial zum ersten Auslass ausgerichtet ist, wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit der Bewegungseinheit verbunden sind, um gemeinsam mit der ersten Mikrowellenelektrode (30) bewegt zu werden, und wobei die erste und zweite Gasführung (42, 40) mit unterschiedlichen Gasquellen verbindbar sind; und wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50), wobei die wenigstens eine zweite Mikrowellenelektrode (50) und/oder die Substrataufnahme (10) bewegbar sind, um ein auf der Substrataufnahme (10) befindliches Substrat (2) in einem Wirkbereich der wenigstens einen zweiten Mikrowellenelektrode (50) oder außerhalb des Wirkbereichs anzuordnen.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | ger |
| recordid | cdi_epo_espacenet_DE102011015263B4 |
| source | esp@cenet |
| subjects | BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING |
| title | Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-22T04%3A44%3A03IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=NIESS,%20J%C3%9CRGEN&rft.date=2014-07-24&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102011015263B4%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |