Substratträger

Gegenstand der Erfindung ist ein Substratträger zum Transport und zur Halterung von Substraten bei der Beschichtung in Plasmakammern. Der Substratträger besteht aus einem bis 800°C formstabilen Material und weist Längsstreben und Querstreben auf, die eine Mehrzahl von Öffnungen umgeben, in die Subst...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DECKER, DANIEL, SCHUBERT, STEFAN, OELSNER, DANIEL
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Gegenstand der Erfindung ist ein Substratträger zum Transport und zur Halterung von Substraten bei der Beschichtung in Plasmakammern. Der Substratträger besteht aus einem bis 800°C formstabilen Material und weist Längsstreben und Querstreben auf, die eine Mehrzahl von Öffnungen umgeben, in die Substrate eingelegt und entlang der Kanten der Längs- uen auf der Unterseite an den Kanten so abgestützt, dass ein Plasmaumgriff reduziert ist. Die Unter- und/oder die Oberseiten einer oder mehrerer der Querstreben weisen eine Formgebung auf, die einen Gas- und Plasmafluss quer zur Transportrichtung des Substrats unterstützt.