Schleusungsverfahren für eine Vakuumprozessanlage

Schleusungsverfahren für Vakuumprozessanlagen, bei dem in mindestens eine Schleusenkammer der Vakuumprozessanlage Luft eingelassen wird, bis innerhalb und außerhalb der Schleusenkammer der Druck gleich groß ist, wobei die in die Schleusenkammer eingelassene Luft einen gegenüber der Umgebungsluft ger...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BOTZLER, PETER, GEHLERT, MARKUS, KRAUSE, JOCHEN
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Schleusungsverfahren für Vakuumprozessanlagen, bei dem in mindestens eine Schleusenkammer der Vakuumprozessanlage Luft eingelassen wird, bis innerhalb und außerhalb der Schleusenkammer der Druck gleich groß ist, wobei die in die Schleusenkammer eingelassene Luft einen gegenüber der Umgebungsluft geringeren Wassergehalt aufweist, anschließend die Schleusenkammer zur Atmosphäre geöffnet wird, mindestens ein Substrat entlang eines Transportwegs durch die Öffnung in die Schleusenkammer eingebracht und nachfolgend in eine an die Schleusenkammer anschließende Vakuumkammer übergeben wird, wobei auch nach Erreichen des außerhalb der Schleusenkammer herrschenden Drucks und nach dem Öffnen der Schleusenkammer weiter Luft in die Schleusenkammer eingelassen wird, die einen gegenüber der Umgebungsluft geringeren Wassergehalt aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass an mindestens zwei Stellen entlang des Transportwegs der Substrate Luft in einer entsprechenden Anzahl von Teilvolumenströmen in die Schleusenkammer eingelassen wird.