Vorrichtung und Verfahren zur plasmagestützten Herstellung nanoskaliger Partikel und/oder zur Beschichtung von Oberflächen

Die Erfindung bezieht sich auf Vorrichtung zur plasmagestützten Herstellung nanoskaliger Partikel und/oder zur Beschichtung von Oberflächen mit einer Prozesskammer 10, die Elektroden (11, 12, 13) zur Erzeugung eines Lichtbogens A, B aufweist und mit wenigstens einer Gaszuführung (14) und wenigstens...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DE VRIES, EDGAR, LIEBAU, MAIK, UHLEMANN, RALF
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY NOZZLES PERFORMING OPERATIONS SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung bezieht sich auf Vorrichtung zur plasmagestützten Herstellung nanoskaliger Partikel und/oder zur Beschichtung von Oberflächen mit einer Prozesskammer 10, die Elektroden (11, 12, 13) zur Erzeugung eines Lichtbogens A, B aufweist und mit wenigstens einer Gaszuführung (14) und wenigstens einer Materialzuführung (15) zur Erzeugung eines Gas- und Materialstroms C in der Prozesskammer (10) verbunden ist, wobei wenigstens eine erste Elektrode (11) stromaufwärts und wenigstens eine zweite Elektrode (12) stromabwärts voneinander beabstandet angeordnet sind, die zur Erzeugung eines ersten Lichtbogens A unterschiedliche Polaritäten aufweisen und eine erste Heizzone (16a) bilden. The invention relates to a device for the plasma-assisted production of nanoscale particles and/or for coating surfaces, comprising a process chamber (10) which has electrodes (11, 12, 13) for generating an arc (A, B) and is connected to at least one gas supply (14) and at least one material supply (15) in order to generate a gas and material flow (C) in the process chamber (10), wherein at least one first electrode (11) is arranged upstream and at least one second electrode (12) is arranged downstream at a distance from each other, said electrodes having different polarities in order to generate a first arc (A) and forming a first heating zone (16a).