Modulares System und Verfahren zur kontinuierlichen Abscheidung einer dünnen Filmschicht auf einem Substrat

Verfahren zur Dampfabscheidung einer dünnen Filmschicht auf einem Photovoltaik(PV)-Modulsubstrat (14), das aufweist:Befördern von Substraten in serieller Anordnung durch eine Dampfabscheidungsvorrichtung (22) in einer Vakuumkammer (16), in der eine dünne Schicht eines sublimierten Quellenmaterials auf eine obere Fläche der Substrate abgeschieden wird, wobei die Substrate durch die Dampfabscheidungsvorrichtung (22) mit einer gesteuerten konstanten linearen Geschwindigkeit befördert werden, so dass vordere und hintere Abschnitte der Substrate in einer Förderrichtung den gleichen Dampfabscheidungsbedingungen innerhalb der Dampfabscheidungsvorrichtung (22) ausgesetzt sind;Nacherwärmen der Substrate, während die Substrate aus der Dampfabscheidungsvorrichtung (22) heraus befördert werden, so dass entlang der Längserstreckung der Substrate eine gleichmäßige Temperatur erhalten wird, bis das gesamte Substrat aus der Dampfabscheidungsvorrichtung (22) heraus befördert ist, wobei die Substrate (14) für den Nacherwärmungsschritt von der Dampfabscheidungsvorrichtung (22) in ein Nachwärmmodul (32) befördert werden und ferner aufweisend, dass ein konstantes Temperaturprofil über die Länge des Nachwärmmoduls (32) hinweg in Längsrichtung erhalten wird; undAbkühlen der Substrate nach dem Nacherwärmungsschritt;wobei die Substrate (14) durch die Dampfabscheidungsvorrichtung (22) hindurch und in das Nachwärmmodul (32) hinein mit einer ersten Fördergeschwindigkeit befördert werden und von dem Nachwärmmodul (32) in einen stromabwärtigen Abkühlabschnitt (26) mit einer größeren zweiten Fördergeschwindigkeit befördert werden, die wirksam ist, um die Erzeugung eines Temperaturgradienten entlang der Längserstreckung der Substrate zu verhindern. A system and associated process for vapor deposition of a thin film layer on a photovoltaic (PV) module substrate is includes establishing a vacuum chamber and introducing the substrates individually into the vacuum chamber. A conveyor system is operably disposed within the vacuum chamber and is configured for conveying the substrates in a serial arrangement through a vapor deposition apparatus within the vacuum chamber at a controlled constant linear speed. A post-heat section is disposed within the vacuum chamber immediately downstream of the vapor deposition apparatus in the conveyance direction of the substrates. The post-heat section is configured to maintain the substrates conveyed from the vapor deposition apparatus in a desired heated