Verfahren und Vorrichtung zur Qualifizierung einer Optik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Ein Verfahren zur Qualifizierung einer Optik (16; 14 + 16) einer Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie wird bereitgestellt. Die Optik umfasst (16; 14, 16) mindestens ein Spiegelelement (14-1 bis 14-7, 16-1 bis 16-6) mit einer darauf angeordneten reflektiven Beschichtung (52). Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte: Einstrahlen elektromagnetischer Strahlung (13, 42) mindestens zweier unterschiedlicher Wellenlängen auf die Optik (16; 14, 16), wobei eine Eindringtiefe der Strahlung in die Beschichtung (52) des Spiegelelements zwischen den einzelnen Wellenlängen variiert, Durchführen einer optischen Messung an der Optik (16; 14, 16) für jede der Wellenlängen, sowie Auswerten der Messergebnisse für die unterschiedlichen Wellenlängen unter Berücksichtigung einer für die jeweilige Wellenlänge maßgeblichen Eindringtiefe der Strahlung in die Beschichtung (52) des Spiegelelements. A method for qualifying optics (16; 14, 16) of a projection exposure tool (10) for microlithography. The optics include (16; 14, 16) at least one mirror element (14-1 to 14-7, 16-1 to 16-6) with a reflective coating (52) disposed on the latter. The method includes: irradiating electromagnetic radiation (13, 42) of at least two different wavelengths onto the optics (16; 14, 16), a penetration depth of the radiation into the coating (52) of the mirror element varying between the individual wavelengths, taking an optical measurement on the optics (16; 14, 16) for each of the wavelengths, and evaluating the measurement results for the different wavelengths taking into consideration a respective penetration depth of the radiation into the coating (52) of the mirror element for each of the different wavelengths.