Vorrichtung zur plasmagestützten Bearbeitung von Substraten

itung, die eine Hohlkatodenelektrode (1) und eine Transporteinrichtung für ein Substrat (7), die in Relativbewegung zueinander stehen, sowie ein Gaseinlasssystem (5) und eine Gasabführungsystem (6) enthält, wobei die Länge (l) der Hohlkatodenelektrode (1), definiert als ihre größte Ausdehnung senkrecht zur Substrattransportrichtung (8) etwa der der Substratbreite entspricht und die Breite (b) der Hohlkatodenelektrode (1), definiert als ihre größte Ausdehnung parallel der Substrattransportrichtung (8), viel kleiner ist als die Substratlänge in Transportrichtung (8), dadurch gekennzeichnet, dass die Hohlkatode auf der dem Reaktionsraum zugewandten Elektrodenfläche angeordnet ist und als ein unterbrechungsfreier rost- oder mäanderförmiger Kanal (2), begrenzt durch parallel zueinander verlaufende Stege (3) sowie den äußeren Rahmen (4) der Hohlkatodenelektrode (1), in der Elektrodenoberfläche ausgebildet ist, der mindestens drei zueinander parallele Teilstücke senkrecht zur Substrattransportrichtung enthält und dass zur Gaszufuhr und zur Gasabführung des Reaktionsgases oder von Komponenten des Reaktionsgases lineare Systeme an den Hohlkatodenelektrodenlängsseiten angeordnet sind. Device for plasma-assisted substrate treatment comprises a hollow-cathode electrode (1), a transport device for a substrate, which is in a relative motion to each other, a gas inlet system and a gas removal system, where the length of the hollow-cathode electrode defined as its largest dimension perpendicular to the substrate transport direction corresponds to the substrate width, and the width of the hollow-cathode electrode defined as its largest dimension parallel to the substrate transport direction is smaller than the substrate length in the transport direction. Device for plasma-assisted substrate treatment comprises a hollow-cathode electrode (1), a transport device for a substrate, which is in a relative motion to each other, a gas inlet system and a gas removal system, where the length of the hollow-cathode electrode defined as its largest dimension perpendicular to the substrate transport direction corresponds to the substrate width, and the width of the hollow-cathode electrode defined as its largest dimension parallel to the substrate transport direction is smaller than the substrate length in the transport direction. The hollow cathode is formed as an uninterrupted channel (2) in the electrode surface, which comprises at least three mutually parallel fragments perpendicula