Verfahren zur Erhöhung der Transluzenz eines Substrats

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erhöhung der Transluzenz eines Substrats, bei dem auf der Lichtaustrittsseite mittels chemischer Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck unter Verwendung einer Flamme oder eines Plasmas eine Streuschicht abgeschieden wird, die entweder Zinkoxid und Aluminiu...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	GITTER, UWE, STRUPPERT, THOMAS, HEFT, ANDREAS, SCHIMANSKI, ARND
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erhöhung der Transluzenz eines Substrats, bei dem auf der Lichtaustrittsseite mittels chemischer Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck unter Verwendung einer Flamme oder eines Plasmas eine Streuschicht abgeschieden wird, die entweder Zinkoxid und Aluminium und/oder Aluminiumoxid, insbesondere aluminiumdotiertes Zinkoxid oder Siliziumoxid enthält. A method for increasing a translucency of a substrate is provided, whereby a scattering layer is deposited on the light exit side by means of chemical vapor deposition at atmospheric pressure using a flamer of a plasma, the scattering layer contains either zinc oxide or aluminum and/or aluminum oxide, more particularly aluminum-doped zinc oxide or silicon oxide.