Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung von Halbleiterscheiben in Beschichtungsanlagen

Verfahren zur Beschichtung von Halbleiterscheiben in einer Beschichtungsanlage, bei dem die Halbleiterscheiben innerhalb mindestens eines Funktionsbereichs beschichtet werden, wobei einzelne Halbleiterscheiben in mindestens zwei Reihen nebeneinander und in mindestens zwei Reihen hintereinander direk...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: FUCHS, INGOLF, GOTTSMANN, LUTZ
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Verfahren zur Beschichtung von Halbleiterscheiben in einer Beschichtungsanlage, bei dem die Halbleiterscheiben innerhalb mindestens eines Funktionsbereichs beschichtet werden, wobei einzelne Halbleiterscheiben in mindestens zwei Reihen nebeneinander und in mindestens zwei Reihen hintereinander direkt auf ein Förderband mindestens einer Transporteinrichtung aufgelegt werden und auf dem Förderband in die Beschichtungsanlage hinein, durch mindestens einen Funktionsbereich hindurch und aus der Beschichtungsanlage heraus transportiert werden.