Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung von Halbleiterscheiben in Beschichtungsanlagen
Verfahren zur Beschichtung von Halbleiterscheiben in einer Beschichtungsanlage, bei dem die Halbleiterscheiben innerhalb mindestens eines Funktionsbereichs beschichtet werden, wobei einzelne Halbleiterscheiben in mindestens zwei Reihen nebeneinander und in mindestens zwei Reihen hintereinander direk...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Verfahren zur Beschichtung von Halbleiterscheiben in einer Beschichtungsanlage, bei dem die Halbleiterscheiben innerhalb mindestens eines Funktionsbereichs beschichtet werden, wobei einzelne Halbleiterscheiben in mindestens zwei Reihen nebeneinander und in mindestens zwei Reihen hintereinander direkt auf ein Förderband mindestens einer Transporteinrichtung aufgelegt werden und auf dem Förderband in die Beschichtungsanlage hinein, durch mindestens einen Funktionsbereich hindurch und aus der Beschichtungsanlage heraus transportiert werden. |
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